Расчет и проектирование устройств электронной и ионной литографии
О курсе
Электронная и ионная литография — технологические методы
изготовления сверхбольших интегральных микросхем и полупроводниковых приборов с
субмикронными размерами элементов. Электронная литография достигла высокого развития
в создании элементов субмикронного -размера и совершенствуется в повышении
быстродействия процессов обработки. Ионная литография не так хорошо развита,
но обладает большими перспективными возможностями, связанными с дальнейшим
увеличением разрешения и переходом к прецизионному размерному легированию без
использования традиционного процесса литографии. Ее будущее зависит от
совершенствования ионных источников и электронно-оптических систем, для
которых свойственны аберрационные искажения изображений. Разработка
прецизионных электроннооптических систем возможна только при учете и
ограничении аберрационных явлений, для чего требуются точные электронно-оптические
расчеты.
Какие знания получу?
-
Понимание технологии проектирования электронных и ионных литографов и оптических систем к ним
Требования
- Опыт 3D моделирования
Уроков
- 36 Уроков
- Часов
- Особенности электронной литографии
- Типовые электронно-оптические системы
- Источники электронов
- Генераторы изображений - Часть 1
- Генераторы изображений - Часть 2
- Проекционные устройства
- Физические особенности ионной литографии
- Типовые ионные источники
- Газофазный источник с полевой ионизацией
- Жидкометаллические ионные источники
- Типовые ионно-оптические системы - Часть 1
- Типовые ионно-оптические системы - Часть 2
- Расчёт оптимальных зондовых систем
- Электронно-оптическое изображение
- Оптико-механическая аналогия движения электрона
- Каноническое разложение скалярного и векторного потенциала
- Параксиальная оптика - Часть 1
- Параксиальная оптика - Часть 2
- Аберрации луча в магнитном поле
- Аберрации изображения проекционной системы с магнитными полями - Часть 1
- Аберрации изображения проекционной системы с магнитными полями - Часть 2
- Аберрации изображения проекционной системы с магнитными полями - Часть 3
- Геометрические аберрации электростатического проектора
- Геометрические аберрации в системе содержащей магнитные линзы и дефлекторы - Часть 1
- Геометрические аберрации в системе содержащей магнитные линзы и дефлекторы - Часть 2
- Хроматические аберрации в системе содержащей магнитные линзы и дефлекторы
- Пример расчёта генератора изображения
- Аберрации в системе, содержащей смещённый с оптической оси активный элемент - Часть 1
- Аберрации в системе, содержащей смещённый с оптической оси активный элемент - Часть 2
- Коррекция аберрации
- Допуски
- Контрольный расчёт
- Особенности проекционных систем
- Методы оптимизации проекционных систем - Часть 1
- Методы оптимизации проекционных систем - Часть 2
- Оптимальные системы
Об учителе
Отзывов
Без замечаний